壓縮氣體，如氮氣和氫氣，已經(jīng)成為任何一家實驗室的組成部分。氣體發(fā)生器可為諸如傅里葉紅外變換光譜儀(FT-IR)、氣相色譜、總有機(jī)碳分析儀(TOC)、核磁i共振(NMR)和熱分析儀等儀器提供吹掃氣、載氣以及燃?xì)獾难b置。此外，壓縮氣體還可與自動取樣器聯(lián)用，用于溶劑蒸發(fā)、激光i氣體室的清洗，以及用氣體覆蓋溶劑和樣品。
依據(jù)于氣體種類的不同和所需氣體純度的高低，氣體發(fā)生器制備氣體的所采用的工藝也有所不同。多數(shù)情況下，氣體發(fā)生器利用膜片和特定的吸附劑來制備極高純度的氣體(99.99999 %)。氣體發(fā)生器主要包括氮氣、氫氣、TOC、零級空氣、氧氣和臭氧發(fā)生器。
氣體發(fā)生器之所以迅速成為許多實驗室的供氣設(shè)備，原因有很多，蕞重要的原因之一是氣體發(fā)生器可以方便地進(jìn)行無限制的連續(xù)供氣，這與傳統(tǒng)的通過預(yù)填氣罐/瓶供氣恰好相反，因為預(yù)填氣罐/瓶內(nèi)的氣體是會用完的。涉及到氣體，另一個需要考慮的問題就是安全性。氣體發(fā)生器使得分析者可以連續(xù)地制備氣體，因此無需將氣體儲存在容器中，因為容器如果泄露的話會發(fā)生危險。
半導(dǎo)體集成電路制造所需要的高純氣體主要分為兩大類：
1.普通氣體：也叫大宗氣體，主要有：H2 、N2 、O2 、Ar 、He等。
2.特種氣體：主要指各種摻雜用氣體、外延用氣體、離子注入用氣體、刻蝕用氣體等。
半導(dǎo)體制造用氣體按照使用時的危險性分類：
1.可燃、助燃、易然易暴氣體：H2 、CH4、H2S、NH3 、SiH4、PH3 、B2H6、SiH2CL3、CLF3、SiHCL3等
2.有毒氣體：AsH3、PH3 、B2H6等
3.助燃?xì)怏w：O2 、N2O、F2 、HF等
4.窒息性氣體：N2 、He 、CO2、Ar等
5.腐蝕性氣體：HCL 、PCL3 、POCL3 、HF、SiF4、CLF3等
常常有客戶認(rèn)為高純氣體或是符合使用標(biāo)準(zhǔn)的氣體就是標(biāo)準(zhǔn)氣體了，其實不然，氣體行業(yè)中把這樣的氣體才稱之為標(biāo)準(zhǔn)氣體！ 標(biāo)準(zhǔn)氣體其實是一種高度均勻、穩(wěn)定性良好和量值準(zhǔn)確的氣體。標(biāo)準(zhǔn)氣體當(dāng)然可以是單一的純氣或高純氣體，也可以是由多組分氣體配制而成的混合氣體。 標(biāo)準(zhǔn)氣體之所以被稱為標(biāo)準(zhǔn)氣體，主要是因為它用于校準(zhǔn)儀器、儀表、評價測量方法、計量標(biāo)準(zhǔn)傳遞和量值仲裁等。它們具有復(fù)現(xiàn)、保存和傳遞量值的基本作用。
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